【12月28日事業計画概要書〆切】令和8年度 横浜市次世代重点分野立地促進助成
脱炭素やAI・半導体などの成長分野を重点化し、企業の市内進出等を助成金により支援することで、市内経済の持続的な成長・発展に資する企業の立地を促進するとともに、イノベーションの創出が期待されるテック系スタートアップの集積を進めます。
詳細・申込
詳細は以下のページをご覧ください。
https://www.city.yokohama.lg.jp/business/keizai/yuchi/support/seido/sokusikin.html
概要
助成対象要件
- 設置する事業所（本社、研究所など）で行う事業が、対象分野に該当すること
- 従業者数、事業所の床面積など、所定の要件を満たすこと
- 建物の賃貸借契約等の締結日の前日までに、事業計画概要書を提出すること
- 2026年12月末までに、事業所を設置すること
※詳細な要件は、下記のWebページ参照。
対象分野
AI・半導体、脱炭素、モビリティ、IT・情報通信、健康医療、先端技術
助成限度額
- 市内初進出：200万円
- 拡張・移転：100万円
- テック系スタートアップ特例（市内初進出／拡張・移転）：100万円
※詳細な要件は、下記のWebページ参照。
申請締切
- 事業計画概要書の提出：2026年12月28日（月）
- 交付申請（本申請）：2027年1月29日（金）
詳細は以下のページをご覧ください。
https://www.city.yokohama.lg.jp/business/keizai/yuchi/support/seido/sokusikin.html
